固化物的FT-IR光谱如图2所示。

图2 固化物红外谱图
1—Si3N4;2—基体固化物;3—纳米复合树脂固化物
Si3N4的FT-IR光谱中,1080cm-1强吸收带为Si3N4中Si—N键的伸缩振动吸收峰。468cm-1左右为Si—N键弯曲振动,3156cm-1是N—H键伸缩振动引起,1640cm-1Si—H键伸缩振动,1390cm-1是N—H的基团变形-剪式振动,3386cm-1为氢键缔合—OH伸缩振动。
在1080cm-1处,纳米复合树脂固化物吸收峰强度明显比基体固化物大,可以说明氮化硅得到很好的分散,并且弥散于基体中。氮化硅颗粒表面胺类基团的伸缩振动峰3156cm-1在纳米复合树脂中消失,而3386cm-1的羟基收缩振动峰也减弱,说明胺类基团和羟基与环氧丙烯酸酯的某些基团发生了键合作用。